GB-T 6624-2009 硅抛光片表面质量目测检验方法

书书书犐犆犛２９．０４５犎８０中华人民共和国国家标准犌犅／犜６６２４ — ２００９代替ＧＢ／Ｔ６６２４ — １９９５硅抛光片表面质量目测检验方法犛狋犪狀犱犪狉犱犿犲狋犺狅犱犳狅狉犿犲犪狊狌狉犻狀犵狋犺犲狊狌狉犳犪犮犲狇狌犪犾犻狋狔狅犳狆狅犾犻狊犺犲犱狊犻犾犻犮狅狀狊犾犻犮犲狊犫狔狏犻狊狌犪犾犻狀狊狆犲犮狋犻狅狀２００９  １０  ３０发布２０１０  ０６  ０１实施中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会发布书书书前　　言　　本标准代替ＧＢ／Ｔ６６２４ — １９９５《硅抛光片表面质量目测检验方法》。本标准与原标准相比主要有如下变化： ——— 修改了高强度汇聚光源照度要求，由不小于１６０００ｌｘ改为不小于２３００００ｌｘ； ——— 增加了净化室级别要求； ——— 扩大了照度计测量范围为０ｌｘ～３３００００ｌｘ； ——— 增加了测量长度工具； ——— 更改检测条件中光源与硅片之间的距离要求。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。本标准主要起草单位：上海合晶硅材料有限公司。本标准主要起草人：徐新华、王珍。本标准所替代标准的历次版本发布情况为： ——— ＧＢ／Ｔ６６２４ — １９８６、ＧＢ／Ｔ６６２４ — １９９５。 Ⅰ 犌犅／犜６６２４ — ２００９

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本文档由人生无常于 2025-02-21 14:29:16上传分享